Prema pisanju kineskog poslovnog portala UDN, Huawei je podnio patentnu prijavu koja pokriva ekstremno ultraljubičasti (EUV) litografski skener. Ako ova kompanija bude u stanju napraviti takav skener, kineski proizvođači čipova mogli bi proizvoditi čipove na tehnologijama ispod 7 nm.
Prijava patenta nije jednaka mogućnosti izrade EUV skenera, jer se radi o vrlo složenoj mašini koja sadrži brojne najsavremenije komponente koje moraju raditi savršeno usklađeno i duže vrijeme. Nadalje, čak i s EUV alatom pri ruci, proizvođači i dalje moraju smisliti sasvim nove otpornike i mnoge druge stvari potrebne za proizvodnju većih količina čipova.
Brojne svjetske kompanije pokušale su razviti takav alat, no to je za sada pošlo za rukom samo nizozemskom ASML-u i to nakon više od deset godina razvoja i uz finansijsku potporu Intela, Samsunga i TSMC-a. Danas Samsung, SK Hynix i TSMC aktivno koriste ASML-ove EUV alate, ali masovna proizvodnja čipova uz posredstvo te tehnologije još nije ni pokrenuta.
U međuvremenu, SMIC sa sjedištem u Kini nije mogao dobiti već nabavljeni EUV alat za razvoj vlastitog proizvodnog procesa temeljenog na EUV zbog odredbi Wassenaarskog dogovora. Stoga je evidentno da potražnja za EUV skenerima potencijalno postoji i u Kini, iako pod žestokim sankcijama američke administracije, Huawei jedva čekao pokriti i taj segment tržišta.